大家好，来看一则突发消息(xī)。

　　美光公司(sī)在华销售的产品未通(tōng)过网络安(ān)全(quán)审查(chá)

　　据网信办消息，日(rì)前，网络安全审查办公室依法对美光(guāng)公司在(zài)华(huá)销售(shòu)产品进行了网络安(ān)全(quán)审(shěn)查。

　　审查发现，美(měi)光公司(sī)产品存(cún)在较严重网络安全问题隐患，对我国关键信息基(jī)础(chǔ)设施供应链造成(chéng)重大(dà)安全风险，影响我(wǒ)国(guó)国家安全。为此，网络安(ān)全审查(chá)办公室依(yī)法作(zuò)出不予通过网(wǎng)络安全审查的结论(lùn)。按(àn)照《网络安全法》等法律法规，我国内关(guān)键信息基础设施的运营者应停止采(cǎi)购美(měi)光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)。

　　此次(cì)对美光公(gōng)司产品(pǐn)进(jìn)行网络安全(quán)审查(chá)，目的是防范产品网络(luò)安全问题(tí)危害国家关键信息(xī)基础设施安(ān)全，是维护国(guó)家安全(quán)的必要措施。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开放，只要(yào)遵守(shǒu)中国法律法(fǎ)规要求，欢迎(yíng)各国企业、各(gè)类平(píng)台产(chǎn)品服务进入(rù)中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称(chēng)，为(wèi)保障关键信(xìn)息基(jī)础设施供应链安(ān)全，防(fáng)范(fàn)产(chǎn)品问(wèn)题隐患造成网络安全风险(xiǎn)，维护国(guó)家安全，依据《中华人民共和国国(guó)家安全法》《中(zhōng)华人民共(gòng)和国网络安全法(fǎ)》，网络安全(quán)审查办公室(shì)按照(zhào)《网络安(ān)全审查办法(fǎ)》，对美光公司（Micron）在华(huá)销售的产品实施网络安(ān)全审查(chá)。

　　美光(guāng)是美国的存储芯片(piàn)行业龙(lóng)头，也是(shì)全球存储(chǔ)芯(xīn)片巨(jù)头之(zhī)一，2022年收(shōu)入来(lái)自中国市场收入从此(cǐ)前高(gāo)峰57％降(jiàng)至2022年约11％。根(gēn)据(jù)市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士(shì)、美光在全球 DRAM （内存）市场份额(é)约为 94.35％。

　　A股上市公司(sī)中，江波龙(lóng)、佰维存储等公司披露过美光等国际存储厂商为公司供应商(shāng)。

　　美光在江波龙采购占(zhàn)比已(yǐ)经显著下降，至少已经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美(měi)光位列江波龙第(dì)一大存(cún)储晶圆供(gōng)应商，采购(gòu)约(yuē)31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江直径26厘米等于多少寸，26厘米等于多少寸英寸波龙第一大、第二大和第三(sān)大供应商采购金额占比分别(bié)是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业(yè)链上下游建立国内外(wài)广泛合作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等(děng)主要存储晶圆原厂签(qiān)署了(le)长期(qī)合约，确保(bǎo)存(cún)储晶圆供应的稳定性(xìng)，巩(gǒng)固(gù)公司在下游市场(chǎng)的供应优势，公(gōng)司也与(yǔ)国内国产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存储、合(hé)肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

　　有券商(shāng)此前就分(fēn)析，如(rú)果美光在中国(guó)区销售受到(dào)限制，或(huò)将导致下游客户(hù)转而采购国(guó)外三星、 SK海力(lì)士，国内(nèi)长江存储、长(zhǎng)鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析称，长存(cún)、长鑫的上(shàng)游设备(bèi)厂或从(cóng)中(zhōng)受益。存(cún)储器的(de)生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的(de)工(gōng)艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维(wéi)到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄(báo)膜成为最关键、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过(guò)薄膜(mó)沉积工艺步骤，同时刻(kè)蚀(shí)目前前(qián)沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未(wèi)来可能会(huì)更(gèng)深(shēn)的孔或者沟槽，催生更多(duō)设(shè)备需求直径26厘米等于多少寸，26厘米等于多少寸英寸or: #ff0000; line-height: 24px;'>直径26厘米等于多少寸，26厘米等于多少寸英寸。据(jù)东京电子披露，薄膜沉积(jī)设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开(kāi)支(zhī)合计为75％。自长江存(cún)储被加入美国限制名单，设备国(guó)产化进程加速(sù)，看(kàn)好拓荆科技(jì)（薄膜沉积）等(děng)相(xiāng)关公司份额提升，以及存储业务占比(bǐ)较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等(děng)收入增长。

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